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ElektroPhysik*涂層測(cè)厚儀的校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)片與基體
更新時(shí)間：2017-12-09 點(diǎn)擊次數(shù)：1879次
一、ElektroPhysik*涂層測(cè)厚儀的校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)片（包括箔和基體）
二、ElektroPhysik*涂層測(cè)厚儀的基體
已知厚度的箔或已知覆蓋層厚度的試樣均可作為校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)片。簡(jiǎn)稱標(biāo)準(zhǔn)片。
1、校準(zhǔn)箔
對(duì)涂層測(cè)厚儀“箔”是指非磁性金屬或非金屬的箔或墊片。“箔”有利于曲面上的校準(zhǔn)。
2、有覆蓋層的標(biāo)準(zhǔn)片
采用已知厚度的、均勻的、并與基體牢固結(jié)合的覆蓋層作為標(biāo)準(zhǔn)片。對(duì)于本儀器，覆蓋層應(yīng)是非磁性的。
二、ElektroPhysik*涂層測(cè)厚儀的基體
1、對(duì)于涂層測(cè)厚儀標(biāo)準(zhǔn)基體金屬的磁性和表面粗糙度，應(yīng)當(dāng)與待測(cè)試件基體金屬的磁性和表面粗糙度相似。為了證實(shí)標(biāo)準(zhǔn)片的適用性，可用標(biāo)準(zhǔn)片的基體與待測(cè)試件基體上所測(cè)得的讀數(shù)進(jìn)行比較。
2、如果待測(cè)試件的基體金屬厚度沒有超過參數(shù)表中所規(guī)定的臨界厚度，可采用下面兩種方法進(jìn)行校準(zhǔn)：
1） 在與待測(cè)試件的基體金屬厚度相同的金屬標(biāo)準(zhǔn)片上校準(zhǔn)；
2）用一足夠厚度的，電學(xué)或磁學(xué)性質(zhì)相似的金屬襯墊標(biāo)準(zhǔn)片或試件，但必須使基體金屬與襯墊金屬之間無間隙。對(duì)兩面有覆蓋層的試件，不能采用襯墊法。
3、如果待測(cè)覆蓋層的曲率已達(dá)到不能在平面上校準(zhǔn)，則有覆蓋層的標(biāo)準(zhǔn)片的曲率或置于校準(zhǔn)箔下的基體金屬的曲率，應(yīng)與試樣的曲率相同。
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